1
ستاد ویژه توسعه فناوری نانو Iran Nanotechnology Innovation Council بستن
  • ستاد ویژه توسعه فناوری نانو

  • بانک اطلاعات شاخص های فناوری نانو

  • سایت جشنواره فناوری نانو

  • سیستم جامع آموزش فناوری نانو

  • شبکه آزمایشگاهی فناوری نانو

  • موسسه خدمات فناوری تا بازار

  • کمیته استانداردسازی فناوری نانو

  • پایگاه اشتغال فناوری نانو

  • کمیته نانو فناوری وزارت بهداشت

  • جشنواره برترین ها

  • مجمع بین المللی اقتصاد نانو

  • اکو نانو

  • پایگاه اطلاع رسانی محصولات فناوری نانو ایران

  • شبکه ایمنی نانو

  • همایش ایمنی در نانو

  • گالری چند رسانه ای نانو

  • تجهیزات فناوری نانو

  • صنعت و بازار

  • باشگاه نانو

نانومواد فلورسنت برای نمایان سازی آثار انگشت پنهان در علوم جنایی

افراد مقاله : ‌ مترجم - رحیم قاسمی چالشتری , مترجم - سهراب منوچهری , مترجم - علی عرب

موضوع : آموزش و ترویج کلمات کلیدی : نقاط کوانتومی - فلورسنت تاریخ مقاله : 1398/07/19 تعداد بازدید : 470

مقاله حاضر به روش های کاربردی نوین نمایان سازی آثار انگشت پنهان در علوم جنایی می پردازد. در حال حاضر، کاربرد روش های سنتی نمایان سازی مانند پودر‌افشانی، بخار سیانواکریلات، روش شیمیایی و روش معرف ذرات ریز، با توجه به دارا بودن معایبی مانند تمایز، حساسیت و گزینش پذیری پایین و همچنین سمیت بالا، به تدریج به مخاطره افتاده است. اخیراً به استفاده از نانومواد فلورسنت از جمله نقاط کوانتومی و نانومواد آپکانورژن خاک های نادر به دلیل دارا بودن خواص نوری و شیمیایی منحصر به فرد توجه زیادی شده است. بنابراین، این مقاله بر نمایان سازی آثار انگشت پنهان بر پایه استفاده از نقاط کوانتومی و نانومواد فلورسنت آپکانورژن خاک های نادر تأکید دارد. در مقایسه با روش‌های سنتی، روش های نوین مبتنی بر استفاده از نانومواد فلورسنت، نه تنها کاهش سمیت را نشان می‌دهند بلکه قابلیت دستیابی به تمایز، حساسیت و گزینش پذیری بالا را فراهم نموده‌اند.

 

۱. مقدمه

پوست چین‌دار قسمت انتهایی انگشتان انسان با الگوی پیچیده‌ای از برآمدگی‌ها و شیارها مشخص می‌شود. این الگوها که از زمان تولد شخص بدون تغییر باقی می‌ماند، نه تنها از یک فرد به فرد دیگر، بلکه از یک انگشت به انگشت دیگر متفاوت است. هنگامی که سطح یک شی توسط انگشت لمس می‌شود، ترشحات آبکی نظیر عرق و روغنی مانند چربی می‌توانند به سطح منتقل و منجر به شکل‌گیری اثر‌ انگشت شوند. شایع‌ترین اثر انگشت در صحنه‌های جرم، اثر انگشت پنهان است، به طوری که با چشم غیر مسلح قابل ‌رویت نیست. اگر تمایز مشخصی بین اثر انگشت پنهان به جا مانده و سطح دربرگیرنده آن ایجاد شود، اثر انگشت می‌تواند نمایان شود. در طی قرن گذشته، بسیاری از رویکردهای نمایان‌سازی اثر انگشت نظیر فرایندهای نوری، فیزیکی و شیمیایی مورد مطالعه قرار گرفته‌اند. این روش‌های نمایان‌سازی سنتی دارای اشکالاتی می‌باشند. اخیراً روش‌های جدید مانند الکتروشیمی‌لومینسانس و آشکارسازی ایمونولوژیک برای نمایان‌سازی بسیار گزینش‌پذیر اثر انگشت پنهان مورد استفاده قرار گرفته ‌است. با این حال، عملکرد واقعی این دو تکنیک نسبتاَ پیچیده است، در نتیجه کاربرد عملی آن‌ها را در صحنه‌های جرم محدود می‌سازد.

نانو مواد فلورسنت نظیر نقاط کوانتومی و نانومواد فلورسنت آپ‌کانورژن خاک‌ نادر به دلیل ویژگی‌های نوری و شیمیایی منحصر به فرد به‌ عنوان عامل‌های جدید برای نمایان‌سازی اثر انگشت پنهان، گسترش یافته‌اند. این مواد مزایای بسیاری از قبیل اندازه کوچک، شدت فلورسانس بالا، پایداری شیمیایی و نوری خوب، اصلاح سطح آسان و سمیت پایین دارند.

 

۲. روش‌های سنتی نمایان سازی اثر انگشت پنهان

در گذر زمان، بسیاری از محققان روش‌های گوناگونی را برای ارتقا و بهبود نمایان‌سازی اثر انگشت پنهان جهت کمک به تحقیقات جنایی و تشخیص هویت افراد کشف کرده‌اند. در این میان، پودر افشانی، بخار سیانواکریلات، روش نیترات نقره، روش نین هیدرین، روش ۱، ۸ دی‌آزافلورن-۹- یک (1,8-Diazafluoren-9-one) یا (DFO) و روش معرف ذرات ریز به دلیل سادگی، کارا بودن و سهولت عملیات به صورت گسترده مورد استفاده قرار گرفته‌اند. با این حال، این روش‌های نمایان‌سازی سنتی دارای اشکالاتی می‌باشند. برای مثال، تمایز، حساسیت، و گزینش پذیری نمایان‌سازی آنها پایین است.

 

۳.مشکلات روش‌های سنتی نمایان‌سازی اثر انگشت پنهان

۱.۳. تمایز پایین

مفهوم تمایز در نمایان سازی اثر انگشت، شبیه معنی نسبت سیگنال به نویز، معنی تمایز بین پس زمینه ماده و اثر انگشت را دارا است. شکل ۱ تمایز بالا (a) و تمایز پایین (b) بین پس زمینه ماده و اثر انگشت را نشان می‌دهد.

 دو رویکرد برای افزایش تمایز در نمایان سازی اثر انگشت وجود دارد:  (الف) ارتقاء سیگنال و (ب) کاهش نویز پس زمینه. برای ارتقاء سیگنال، افزایش شدت فلورسانس مهمترین روش استفاده شده است. برای کاهش نویز، جلوگیری از برگشت نور حاصل از رنگ پس زمینه و کاهش تداخل‌های فلورسانس پس زمینه دو رویکرد موثر می‌باشد. در روش پودر افشانی، بخصوص پودرهای اثر انگشت غیرفلورسانس، نظیر پودرهای عادی و پودرهای فلزی، رنگ زیرلایه محدودیت جدی ایجاد می‌کند. بطور کلی، پودرهای فلورسانس اغلب بدلیل نشر فلورسانس قوی برای افزایش سیگنال نمایان‌سازی مورد استفاده قرار می‌گیرند. اما معمولاً برای تحریک پودرهای فلورسانس نیاز به منبع نور فرابنفش است. چنین منابع تابش فرابنفش با انرژی بالا موجب تحریک و نشر فلورسانس زیرلایه شده و در نتیجه، تداخل فلورسانس زیرلایه افزایش می‌یابد. در روش سیانواکریلات بخارشونده، پوشش سفید اثر انگشت‌های بخار داده شده، تمایز نمایان‌سازی پایینی روی سطوح سفید رنگ یا برخی از سطوح تابش کننده رنگی ایجاد می‌کند. در روش‌های شیمیایی مانند روش نیترات نقره و روش نین‌هیدراین، مشکل تمایز پایین همچنان وجود دارد.

 

۲.۳. حساسیت پایین

مفهوم حساسیت با نمایانی و وضوح جزئیات برجستگی‌های اثر انگشت توصیف می‌شود. شکل ۲، تصویر اثر انگشت نمایان شده با حساسیت بالا (a) و حساسیت پایین (b) را نشان می‌دهد. فاکتورهای پیچیده متعددی از قبیل، اندازه، شکل و ضخامت ذرات پودر، ترکیب و ویژگی عامل‌های شیمیایی، مهارت‌های نمایان‌سازی کاربران و کنترل شرایط نمایان‌سازی در حساسیت نمایان سازی موثر هستند. چندین رویکرد برای افزایش حساسیت نمایان‌سازی وجود دارد:  (الف) سنتز پودرهای اثر انگشت دارای کیفیت بالا با کنترل اندازه، شکل و ضخامت مناسب. (ب) ارتقاء مهارت کاربران. (ج) کنترل دقیق شرایط نمایان‌سازی. در روش پاشش پودر، اندازه ذرات پودرهای نمایان‌ساز اثر انگشت بیشتر در حد میکرون و بالاتر است. اینچنین ذرات پودر درشت، جزئیات ظریف لبه‌ها بویژه منافذ عرق موجود در اثر انگشت را می‌پوشاند و نتیجه آن کاهش حساسیت نمایان‌سازی است. علاوه بر این، پودرهای با چسبندگی بالا و یا دارای شکل شبیه پولک، نظیر پودر طلایی و پودر نقره‌ای تمایل دارند تا جزئیات لبه‌های ظریف اثر انگشت را پوشش داده و یا پرزدار کنند. در روش سیانواکریلات، اثر انگشت‌ها بیش از حد بخار داده می‌شود و جزئیات لبه های ظریف اثر انگشت به شدت توسط پلیمرهای سفید پوشانده شده و منجر به کاهش حساسیت نمایان‌سازی می شود. در روش های شیمیایی از جمله روش نیترات نقره، روش نین هیدرین و روش DFO، ممکن است پسماند‌های اثر انگشت موجود بر سطح زیرلایه به راحتی در برخی از حلال های آلی حل شده و در نتیجه کاهش حساسیت نمایان‌سازی را به دنبال داشته باشد. علاوه بر این، منافذ عرق به ندرت بر روی زیرلایه متخلخل نمایان می‌شوند، زیرا منافذ عرق با ویژگی های نشر نوری که دارند نمی توانند بازتاب خوبی بر روی زیرلایه‌های متخلخل داشته باشند. در روش معرف ذرات ریز، مشکلات پایین بودن حساسیت نمایان‌سازی بسیار شبیه به شرایط روش پودرافشانی است، زیرا در این روش نیز اغلب از پودرهای سنتی استفاده می شود. زمان غوطه‌وری ممکن است یک عامل کلیدی برای حساسیت در نمایان‌سازی باشد. به عبارت دیگر، غوطه وری بیش از حد طولانی می تواند پوشش ضخیمی بر جزئیات ظریف ایجاد کند، که باعث کاهش حساسیت در نمایان سازی اثر انگشت شود.

 

۳.۳. گزینش‌پذیری پایین

مفهوم گزینش‌پذیری در نمایان‌سازی اثر انگشت، اشاره به این ویژگی مواد نمایان‌ساز دارد که این مواد فقط لبه‌ های برآمدگی‌ موجود در اثر انگشت پنهان را انتخاب کرده و با آن واکنش می دهند یا به آن متصل می‌گردند و با شیارهای منتهی به زیرلایه و خود زیرلایه برهم کنش نداشته باشند. شکل 3 تصاویری از نمایان‌سازی اثر انگشت پنهان با گزینش‌پذیری بالا (شکل a3) و گزینش‌پذیری پایین (شکل b3) را نشان می‌دهد. در روش پاشش پودر، معمولاً گزینش‌پذیری نمایان‌سازی به دلیل چسبندگی نسبتاً ناچیز فیزیکی ذرات پودر به پسماندهای اثر انگشت پنهان، بالا نیست. بویژه وقتی پودرهای اثر انگشت بر روی سطوح مرطوب مورد استفاده قرار می‌گیرند گزینش‌پذیری نمایان‌سازی به علت چسبیدن قوی پودر به سطح مرطوب کاملاً پایین خواهد بود. در روش سیانواکریلات، گزینش‌پذیری نمایان‌سازی تحت عملکرد مناسب بدلیل برهم کنش پلیمریزاسیون گزینشی عالی بین مونومرهای استر سیانواکریلات و پسماندهای اثر انگشت، بالا است. در روش های شیمیایی از جمله روش نیترات نقره، روش نین هیدرین و روش DFO، بدلیل نفوذپذیری زیرلایه و یا عملکرد نامناسب کاربران، ترکیبات فعال مانند یون‌های کلرید و اسیدهای آمینه به راحتی به شیارهای منتهی به زیرلایه نفوذ و آن را آغشته می‌کنند و در نتیجه گزینش‌پذیری نمایان‌سازی اثر انگشت کاهش می‌یابد.

در روش های شیمیایی از جمله روش نیترات نقره، روش نین هیدرین و روش DFO، بدلیل نفوذپذیری زیرلایه و یا عملکرد نامناسب کاربران، ترکیبات فعال مانند یون‌های کلرید و اسیدهای آمینه به راحتی به شیارهای منتهی به زیرلایه نفوذ و آن را آغشته می‌کنند و در نتیجه گزینش‌پذیری نمایان‌سازی اثر انگشت کاهش می‌یابد.

 

۴.۳.سمیت پایین

مفهوم سمیت در نمایان‌سازی اثر انگشت نه تنها اشاره به سمیت مواد نمایان‌ساز و تجهیزات مرتبط با آن برای انسان دارد، بلکه شامل آسیب به DNA موجود در آثار به جا مانده از اثر انگشت نیز می‌شود. امروزه، با پیشرفت‌های سریع روش‌های آشکارسازی DNA، استخراج و آشکارسازی DNA برای تشخیص هویت بسیار موثر واقع شده است. آشکارترین عیب روش پاشش پودر، دمیدن به پودر است زیرا بیشتر مواد شیمیایی مورد استفاده در این روش سمی هستند. در روش سیانواکریلات، استرهای سیانواکریلات مایع و همچنین بخار آن قابلیت رساندن آسیب حاد به پوست، چشم‌ها و غشاء مخاطی را دارند. در روش‌های شیمیایی عامل‌های نمایان‌سازی نظیر نیترات نقره، نین هیدرین و DFO، همگی سمی هستند. همچنین استفاده از نیترات نقره می‌تواند به DNA آسیب بزند. روش معرف ذرات ریز نسبت به روش پاشش پودر دارای سمیت کمتر است، زیرا از دمیدن به پودر اجتناب می‌شود. با این حال، در تمام روش‌های مایع پایه، شامل روش‌های شیمیایی و روش معرف ذرات ریز، DNA موجود در پسماند اثر انگشت ممکن است به راحتی آسیب ببیند و یا شسته شود. علاوه بر آن، استفاده از منبع نور فرابنفش برای نمایان‌سازی اثر انگشت پنهان نه تنها می‌تواند برای چشم و پوست انسان مضر باشد بلکه موجب کاهش کارایی استخراج DNA خواهد شد.

 

۴. مزایای استفاده از نانومواد فلورسنت برای نمایان‌سازی اثر انگشت پنهان

 نانومواد فلورسنت تحت تحریک نورهای خاص می‌توانند تابش فلورسانس قوی داشته باشند. یکی از موفق‌ترین کاربردهای نانومواد فلورسنت در برچسب‌زنی زیستی و تصویربرداری زیستی است. با الهام از این کاربرد، دانشمندان استفاده از نانومواد فلورسنت در نمایان‌سازی اثر انگشت پنهان را پیشنهاد دادند. اخیراً، استفاده از نانومواد فلورسنت مانند نقاط کوانتومی و نانومواد آپ کانورژن با توجه به خواص نوری منحصر به فردشان برای نمایان‌سازی اثر انگشت پنهان توجه قابل ملاحظه‌ای را به خود جلب کرده است. استفاده از نانومواد فلورسنت در نمایان‌سازی اثر انگشت پنهان دارای مزیت‌های برتری مانند تمایز نمایان‌سازی بالا، حساسیت نمایان‌سازی بالا، گزینش پذیری بالا و سمیت پایین می‌باشد.

 

۱.۴. تمایز بالا

نقاط کوانتومی و نانومواد آپ کانورژن به عنوان بهترین نمونه‌های مطالعه شده، می‌توانند بترتیب تحت تحریک نور فرابنفش و فروسرخ نزدیک، نور مرئی قوی با شدت بالا تابش کنند. چنین تابش فلورسنت قوی به شکل قابل ملاحظه‌ای سیگنال نمایان‌سازی را ارتقاء می‌دهد و موجب کاهش برگشت نور حاصل از رنگ پس زمینه می‌شود و در نتیجه موجب افزایش تمایز نمایان‌سازی خواهد شد. مهمتر اینکه با استفاده از نور تحریک کم انرژی فروسرخ نزدیک، زیرلایه تحریک نخواهد شد و تابش فلورسانس پس زمینه وجود نخواهد داشت. بنابراین با این ترفند، برگشت نور از رنگ پس زمینه کاهش و در نتیجه تمایز نمایان‌سازی بالایی محقق خواهد شد. در نتیجه، استفاده از نانوموادی مانند نقاط کوانتومی و نانومواد آپ کانورژن به منظور نمایان‌سازی اثر انگشت پنهان می تواند بدلیل ویژگی‌های فلورسانس قوی منجر به تمایز نمایان‌سازی بالایی از طریق افزایش سیگنال نمایان‌سازی و کاهش برگشت نور از رنگ پس زمینه شود.

 

۲.۴. حساسیت بالا

اندازه ذرات نانومواد فلورسنت مانند نقاط کوانتومی و نانومواد آپ کانورژن نوعاً کوچک است. بطورکلی قطر نانومواد آپ کانورژن بیشتر از ۱۰۰ نانومتر نیست و اندازه نقاط کوانتومی حتی از این کمتر و از ۱۰ نانومتر تجاوز نمی‌کند. استفاده از چنین نانومواد فلورسنت با اندازه‌های کوچک برای نمایان‌سازی اثر انگشت جزئیات ظریف لبه‌ها مانند کمان‌ها، نقاط انتهایی و منافذ عرق را به راحتی نمی‌پوشاند و نتیجه آن حساسیت نمایان‌سازی بالا خواهد بود. علاوه بر آن، شکل ذرات این مواد فلورسنت کروی است و در طی فرآیند سنتز قابل تنظیم می‌باشد. ضخامت این نانومواد فلورسنت نیز با اصلاح سطح قابل تنظیم است. در نتیجه جذب نانومواد فلورسنت توسط پسماندهای اثر انگشت می‌تواند تنظیم شود و حساسیت نمایان‌سازی می‌تواند افزایش بیشتری داشته باشد. بنابراین، استفاده از نانومواد فلورسنت نظیر نقاط کوانتومی و نانو مواد آپ کانورژن برای نمایان‌سازی اثر انگشت پنهان بدلیل اندازه ذرات کوچک، شکل مناسب و ضخامت قابل تنظیم، به حساسیت نمایان‌سازی بالایی منجر خواهد شد.

 

۳.۴.گزینش پذیری بالا

اضلاح سطح نانومواد فلورسنت مانند نقاط کوانتومی و نانومواد آپ‌کانورژن روشی انعطاف‌پذیر و موثر برای دسترسی به گزینش‌پذیری بالای نمایان‌سازی اثر انگشت است. بار الکتریکی نانومواد فلورسنت را می‌توان با تغییر سطح، قابل تنظیم کرد. این موضوع اجازه پیوند نانوذرات به برخی از پسماندهای خاص موجود در اثر انگشت را از طریق جذب الکترواستاتیکی برای گزینش‌پذیری با نمایان‌سازی بالا خواهد داد. علاوه بر این، سطح این نانومواد فلورسنت می‌تواند با انواع گروه‌های عاملی (مثل کربوکسیل، آمین و آلدئید) اصلاح شود. در نتیجه نانومواد فلورسنت می‌توانند به طور انتخابی به ترکیبات خاص موجود در اثر انگشت از طریق واکنش شیمیایی برای افزایش گزینش‌پذیری انتخابی بچسبند. نانومواد فلورسنت همچنین می‌توانند با برخی از مولکول‌های خاص مانند لیزوزیم موجود در پسماندهای اثر انگشت از طریق پیوند آپتامر مزدوج شده و گزینش‌پذیری بالایی را فراهم کنند.

 

۴.۴. سمیت پایین

برخی عناصر موجود در نقاط کوانتومی مانند کادمیم می‌توانند باعث افزایش سمیت شوند. بعلاوه برخی از نقاط کوانتومی نیز می‌توانند موجب التهاب و آلرژی شوند. گزارش شده است که سمیت نقاط کوانتومی را می‌توان به طور قابل ملاحظه‌ای با اصلاح سطح توسط لایه‌ای از سیلیکا دی اکسید کاهش داد. آزمایش نشان داده است که نانومواد آپ کانورژن اصلاح سطح داده شده سمیت پایین داشته و یا حتی ممکن است غیرسمی باشند، به طوری که برای کاربردهای برچسب‌زنی زیستی و تصویربرداری زیستی مورد استفاده قرار گیرند. مهمتر اینکه، استفاده از نور فروسرخ نزدیک برای تحریک نانومواد آپ‌کانورژن زیان کمتری برای DNA موجود در پسماند اثر انگشت خواهد داشت و برای آنالیزهای بعدی مفید خواهد بود.

 

۵. نمایان‌سازی اثر انگشت پنهان توسط نقاط کوانتومی

نقاط کوانتومی تحت تحریک نور آبی یا فرابنفش می‌توانند نور مرئی قوی تابش کنند (شکل ۴). این مواد دارای مزایای نوری متعددی مانند طیف جذب پهن، تابش قابل تنظیم بواسطه ترکیب و اندازه ذرات، طیف تابش باریک، بازده کوانتومی بالا، پایداری نوری خوب و شدت تابش قوی هستند. علاوه بر آن، سطح نقاط کوانتومی را می‌توان توسط انواع مختلفی از لیگاندهای عاملی به صورت شیمیایی تغییر داد. پس، نقاط کوانتومی امکان پیشرفت جدیدی برای نمایان‌سازی اثر انگشت پنهان با درجه بالایی از تمایز، حساسیت و گزینش‌پذیری فراهم کرده‌اند. تاکنون کادمیم سولفید، کادمیم سلناید و کادمیم تلوراید برای نمایان‌سازی اثر انگشت پنهان استفاده شده‌اند.

 

۱.۵. نقاط کوانتومی استفاده شده در روش پودر افشانی

بطورکلی، وقتی نقاط کوانتومی به صورت پودر افشانی استفاده می‌شوند، به ترکیبات آبی و روغنی موجود در پسماندهای اثر انگشت می‌چسبند، اساساً جاذبه بین نقاط کوانتومی و پسماندهای اثر انگشت پنهان از نوع جاذبه فیزیکی و الکترواستاتیکی است. به دلیل اینکه نقاط کوانتومی چسبیده به پسماندهای اثر انگشت رفتار اکسایشی شدیدی در معرض هوا دارند، تابش فلورسانس نقاط کوانتومی محکوم به کاهش است و در نتیجه تمایز نمایان‌سازی پایین خواهد بود. این موضوع نشان می‌دهد که نگهداری طولانی مدت نمونه‌های اثر انگشت مشکل است. برای غلبه بر مشکل اکسایش نقاط کوانتومی در معرض هوا، نقاط کوانتومی اغلب با مواد خاصی مزدوج یا پوشانده می‌شوند و به شکل نانو کامپوزیت درمی‌آیند.

در سال ۲۰۰۹، دیلاگ و همکاران از نانوکامپوزیت CdS/chitosan (نقاط کوانتومی CdS که در ماتریس پلیمری چیتوسان کپسوله شده‌اند) برای نمایان سازی اثر انگشت پنهان موجود بر روی زیرلایه آلومینیوم استفاده کردند. آنها نانوکامپوزیت سنتز شده را با استفاده از خشک‌کن انجمادی به پودر خشک تبدیل کردند. ابتدا اثر انگشت پنهان توسط استر سیانواکریلات بخار داده شد و سپس، نانوکامپوزیت آماده شده با استفاده از برس برای نمایان‌سازی اثر انگشت بکاربرده شد. همچنین وقتی که اثر انگشت بخار داده نشده روی آلومینیوم نیز با پودر خشک نانوکامپوزیت CdS/chitosan مستقیماً نمایان شد نتایج خوبی مشاهده گردید (شکل ۵). در مقایسه با نمایان‌سازی اثر انگشت پنهان توسط پودرهای سنتی میکرومتری، مانند پودرهای سفید (دارای تیتانیوم اکسید) و پودرهای آلومینیوم، اثر انگشت‌های نمایان شده توسط نانوکامپوزیت CdS/chitosan بهبود تمایز نمایان‌سازی خوبی را نشان داد اما گزینش‌پذیری و حساسیت نمایان‌سازی کاهش یافت. آنها این موضوع را با اطمینان این‌گونه توضیح دادند که فرآیند خشک سازی انجمادی موجب تجمع ذرات نانوکامپوزیت CdS/chitosan شده و کیفیت نمایان‌سازی اثر انگشت پنهان را کاهش داده است. در سال ۲۰۱۱، آلگارا و همکارانش گزارش مشابهی از استفاده نانوکامپوزیت CdS/PPH (نقاط کوانتومیCdS پیوند شده به مواد هتروساختار فسفات متخلخل) برای نمایان‌سازی اثر انگشت پنهان موجود بر روی انواع زیرلایه ارائه کردند.

هیبرید مواد هتروساختار فسفات متخلخل به صورت شیمیایی با گروه‌های مرکاپتوپروپیل عامل دار شده و پس از آن برای سنتز نانوکامپوزیت CdS/PPH استفاده شد. سپس نانوکامپوزیت تهیه شده، مستقیماً برای نمایان‌سازی اثر انگشت پنهان موجود بر روی سطوح مختلف استفاده شد. حساسیت و گزینش‌پذیری نمایان‌سازی بهبود بیشتری پیدا کرد.

در سال ۲۰۱۲، گائو و همکارانش از نانوموادCdTe@SiO2 (نقاط کوانتومی CdTe با پوشش لایه‌ای از سیلیکون دی‌اکسید) برای نمایان‌سازی اثر انگشت پنهان بر روی زیرلایه‌های مختلف استفاده کردند. برای سنتز، نقاط کوانتومی بدون پوشش CdTe با پوشش SiO2 با روش استوبر- پایه به CdTe@SiO2 تبدیل شدند. در مقایسه با نقاط کوانتومی بدون پوشش CdTe، ساختار هسته- پوستهCdTe@SiO2 بدلیل پایداری، شفافیت و غیر سمی بودن سیلیکون دی‌اکسید دارای قابلیت چسبندگی بهتر، پایداری شیمیایی بالاتر، شدت فلورسانس قوی‌تر و سمیت پایین‌تری است. پس نانومواد CdTe@SiO2 مستقیماً برای نمایان سازی اثر انگشت پنهان موجود بر روی سطوح شیشه، پلیمر، پلاستیک، لاستیک، سنگ مرمر، آلومینیوم و کاغذ به کاربرده شد. شکل ۶ نشان می‌دهد که اثر انگشت‌های پنهان نمایان شده با CdTe@SiO2 دارای حساسیت و گزینش پذیری بالایی هستند. هر چند، تمایز نمایان‌سازی لاستیک سیاه (شکل e۶) و کاغذ (شکل f۶) به علت تداخل‌های فلورسانس اجتناب ناپذیر پس‌زمینه زیرلایه تحت تحریک نور فرابنفش ۳۶۵ نانومتر، اندکی پایین‌تر از بقیه است.

 

۲.۵. نقاط کوانتومی استفاده شده در روش مایع

استفاده از نقاط کوانتومی به روش مایع برای نمایان‌سازی اثر انگشت پنهان این اجازه را به نقاط کوانتومی می‌دهد که بطور انتخابی در محیطی مایع به برخی از ترکیبات موجود در پسماند اثر انگشت بچسبند. برهم‌کنش جذب انتخابی بین نقاط کوانتومی و پسماند اثر انگشت پنهان توسط واکنش شیمیایی تعیین می‌گردد. هر چند برخی فرآیندهای فیزیکی مانند جذب فیزیکی و جاذبه الکترواستاتیکی ممکن است همزمان روی دهد. برای انجام برهم کنش جذب، نقاط کوانتومی اغلب توسط لیگاندها با گروه‌های عاملی خاص اصلاح می‌شوند.

در سال ۲۰۰۰، مِنزل و همکارانش اولین گزارش استفاده از نانوکامپوزیت‌های CdS/DSS (نقاط کوانتومی CdS اصلاح شده با مولکول‌های دو شاخه به نام دی‌اکتیل سدیم سولفوساکسنیت) حل شده در هپتان یا هگزان را برای نمایان‌سازی اثر انگشت پنهان روی زیرلایه‌های فلزی و چسبناک ارائه کردند. قبل از عملیات با نانوکامپوزیت CdS/DSS اثر انگشت پنهان با استر سیانواکریلات بخار داده شده بود. سپس اثر انگشت بخار داده شده در زمان‌های مشخصی از چند ثانیه تا چند دقیقه درون محلول (هپتان یا هگزان) آلی نانوکامپوزیت CdS/DSS فرو برده شد. برای زدودن نانوکامپوزیت‌های اضافی، نمونه‌ها به آرامی با هگزان شستشو داده شد و بنابراین به سختی جزئیات اثر انگشت قابل دیدن شد. سپس نمونه‌ها خشک شد و تحت نور فرابنفش مشاهده گردید. همانطورکه در شکل ۷ دیده می شود، اثر انگشت موجود روی ورقه آلومینیوم (شکل a۷) و ظرف نوشیدنی (شکلb۷) با استفاده از روش بخار سیانواکریلات و رنگ‌آمیزی نانوکامپوزیت CdS/DSS با گزینش پذیری و تمایز بالا نمایان شده است. متأسفانه، تلاش برای نمایان سازی اثر انگشت پنهان موجود بر روی سطوح فلز، شیشه و پلاستیک بدون پوشش اولیه با سیانواکریلات توسط رنگ‌آمیزی CdS/DSS با موفقیت همراه نبود.

در سال ۲۰۰۹، وانگ با استفاده از CdSe اصلاح شده با تیوگلیکولیک اسید و نانوذرات نقاط کوانتومی CdSe@CdS حل شده در محلول آبی را برای نمایان‌سازی اثر انگشت پنهان گزارش کردند. فرآیند نمایان‌سازی، ساده، موثر و کارا بود. اثر انگشت بدون پوشش به مدت ۱۵ دقیقه مستقیماً درون محلول آبی CdSe فروبرده شد. پس از آن نمونه از محلول خارج و خشک گردید و تحت تحریک نور فرابنفش ۳۸۰ نانومتر مشاهده شد. آنها دریافتند که مقدار pH محلول آبی CdSe تاثیر مشخصی بر نتایج نمایان‌سازی اثر انگشت دارد. با قرار گرفتن نمونه اثر انگشت در شرایط بازی ضعیف (یعنی ۸pH=) جزئیات بیشتری از لبه‌های اثر انگشت را می‌توان بدست آورد. همانطورکه در شکل ۸ مشاهده می‌شود، آنها دریافتند که اثر انگشت نمایان شده توسط محلول آبی نقاط کوانتومی CdSe@CdS (شکل b۸) نتایج بهتری را نسبت به نقاط کوانتومی بدون پوشش CdSe (شکل a۸) نشان می‌دهد. آنها همچنین پی‌بردند که تصویر اثر انگشت بهبود یافته تحت تحریک نور فرابنفش ۳۸۰ نانومتر (شکل b۸) تمایز، حساسیت و گزینش‌پذیری نمایان‌سازی بالایی را نشان می‌دهد.

در سال ۲۰۱۰، لیو و همکاران نانوذرات نقاط کوانتومی CdTe را برای نمایان‌سازی اثر انگشت بکار بردند. نقاط کوانتومی CdTe می‌توانند بطور گزینشی توسط برآمدگی‌های اثر انگشت جذب شوند. آثار انگشت پنهانِ نمایان شده با نقاط کوانتومی CdTe تحت تحریک نور، دارای تمایز، حساسیت و گزینش‌پذیری کافی بودند (شکل ۹). هرچند، برخی از جزئیات برآمدگی‌ها توسط نقاط کوانتومی CdTe پوشیده بودند. احتمالاً علت آن کاملاً شسته نشدن نقاط کوانتومی CdTe اضافی بوده است.

در سال ۲۰۱۴، وانگ و همکاران نانوذرات نقاط کوانتومی کادمیم سلناید حل شده در محلول آبی را برای نمایان‌سازی اثر انگشت پنهان بکار بردند. فرایند نمایان‌سازی شامل فرو بردن مستقیم اثر انگشت به درون محلول آبی نقاط کوانتومی کادمیم سلناید و سپس شستشوی نقاط کوانتومی کادمیم سلناید اضافی با آب مقطر و پس از آن مشاهد اثر انگشت تحت تحریک نور فرابنفش با طول موج ۳۶۵ نانومتر بود. جهت بهینه سازی، پارامترهای نمایان‌سازی مثل زمان، PH محلول آبی و همچنین طول موج منبع نور تحریک با جزئیات بررسی شده است. جهت دستیابی به نمایان‌سازی یکنواخت، نمونه‌ها باید به مدت ۱۵ دقیقه در محلول آبی نقاط کوانتومی کادمیم سلناید فرو برده شود و این زمان می‌تواند برای آثار انگشت یکروزه به مدت ۳۰ دقیقه نیز به طول انجامد. وانگ و همکارانش همچنین دریافتند که مقدار بهینه PH برای نمایان‌سازی برابر ۸ است. همانطورکه در شکل ۱۰ مشاهده می‌شود، آثار انگشت نمایان ‌شده با محلول آبی نقاط کوانتومی کادمیم سلناید و تحت تحریک نور فرابنفش ۳۶۵ نانومتر (شکل b۱۰) یا نور آبی ۴۴۰ نانومتر (شکل c۱۰) می توانند تمایز، حساسیت و گزینش‌پذیری کافی نشان دهند. هرچند، هنوز تمام اثر انگشت‌ها بطور یکنواخت نمایان نشده‌اند و برخی از مناطق با فلورسانس بسیار روشن و بسیار تاریک (شکل d۱۰) دیده می‌شوند. علاوه بر این، برخی از اجسام کوچک رشته ای که بر روی برخی از جزئیات لبه‌ها یافت می شوند، می توانند فلورسنت پس زمینه آبی را تحت تحریک نور فرابنفش تابش‌کنند و به این ترتیب موجب ایجاد تداخل پس زمینه واضح می‌شوند (شکل d۱۰).

 

۳.۵. نقاط کوانتومی استفاده شده برای نمایان‌سازی آثار انگشت خونی

معمولاً استفاده از نقاط کوانتومی برای نمایان‌سازی اثر انگشت خونی، به چسبیدن نقاط کوانتومی به برخی ترکیبات مشخص موجود در خون مانند هموگلوبین بستگی دارد. برای افزایش برهم‌کنش بین نقاط کوانتومی و هموگلوبین خون موجود در پسماند اثر انگشت، نقاط کوانتومی اغلب توسط لیگاندهای خاص دارای گروه‌های عاملی اصلاح می‌شوند.

در سال ۲۰۰۹، بکو و همکارانش نانوذرات نقاط کوانتومی کادمیم تلوراید اصلاح شده با تیوگلیکولیک اسید را برای نمایان‌سازی اثر انگشت خونی موجود بر روی انواع مختلف زیرلایه مثل پلی‌پروپیلن شفاف، پلی‌پروپیلن سیاه، شیشه و ورقه آلومینیومی استفاده کردند.

روش کار به این صورت بود که ابتدا اثر انگشت خونی در محلول پنج-سولفوسالیسیلیک اسید برای ۱۰ دقیقه غوطه‌ور شد و سپس اثر انگشت با آب شستشو شد. پس از آن، اثر انگشت در محلول آبی نقاط کوانتومی کادمیم تلوراید با PH ، ۵/۳ برای ۲۰ دقیقه فروبرده شد و سرانجام نقاط کوانتومی کادمیم تلوراید اضافی با آب مقطر به مدت ۲ تا ۳ دقیقه شستشو شدند. همانطور که در شکل ۱۱ نشان داده شده است، اثر انگشت خونی نمایان شده با محلول آبی نقاط کوانتومی کادمیم تلوراید و تحت تحریک نور فرابنفش ۳۰۰ تا ۴۰۰ نانومتر می‌توانند تمایز و گزینش‌پذیری نمایان‌سازی کافی نشان دهند. مرزها (لبه‌ها) کاملاً مشخص و حساسیت بالایی را نشان دادند. علاوه بر این، اثر انگشت خونی نمایان شده توسط نقاط کوانتومی کادمیم تلوراید دارای قابلیت تشخیص یکسانی بر روی شیشه (شکل ۱۱،a و a‘) و مواد پلی اتیلن (شکل ۱۱، b ، b‘ و c، c‘) در حضور اسید زرد ۷ [2] بودند. در صورتیکه اثر انگشت نمایان شده بر روی آلومینیوم در حضور اسید زرد ۷ نامطلوب بود. واضح است که در برخی نواحی تابش نور فلورسانس بسیار روشن و یا بسیار تاریک است.

در سال ۲۰۱۳، مورت و همکاران بطور مشابه از نانوذرات نقاط کوانتومی ZnS: Cu (روی سولفید آلاییده شده با مس) اصلاح شده با محلول آبی اسیدِ ۳- مرکاپتو پروپیونیک برای نمایان سازی اثر انگشت خونی موجود بر روی انواع مختلفی از زیرلایه‌های نامتخلخل مثل پلی‌پروپیلن شفاف، پلی‌پروپیلن سیاه، شیشه و ورقه آلومینیومی استفاده کردند. مکانیسم و فرآیند نمایان‌سازی کاملاً شبیه گزارش بکو و همکارانش در سال ۲۰۰۹ بود.

 

۶ – نمایان‌سازی اثر انگشت پنهان با استفاده از نانومواد فلورسنت آپ کانورژن

نانومواد فلورسنت آپ کانورژن خاک نادر، موادی آلاییده با خاک‌های نادر هستند. وقتی توسط نور با طول موج بلند تحریک شوند، نور با طول موج کوتاه‌تر تابش می‌کنند. برای مثال، وقتی با نور فروسرخ تحریک شوند، نور با طول موج مرئی تابش می‌کنند (شکل ۱۲). نانومواد فلورسنت آپ کانورژن دارای مزایای متعددی همچون طیف تابش باریک، سمیت پایین و شدت تابش قوی می‌باشند. علاوه بر این، آن‌ها را می‌توان با روش‌های شیمیایی عامل‌دار کرد. به علت اینکه می‌توان این مواد را با نور فروسرخ نزدیک تحریک کرد (برای مثال۹۸۰ نانومتر) ، تداخل‌های فلورسنت پس زمینه حذف خواهد شد. این موضوع موجب افزایش تمایز نمایان‌سازی خواهد شد. بنابراین نانومواد فلورسنت آپ کانورژن، نوید بخش موادی با تمایز، حساسیت و گزینش‌پذیری بالای نمایان‌سازی هستند. در حال حاضر NaYF4 آلاییده با یون‌های Yb3+ وEr3+ (NaYF4: Yb,Er) رایج‌ترین ماده آپ کانورژن مورد استفاده است که بیشترین شدت تابش فلورسانس آپ کانورژن را دارد.

 

۶.۱. نانومواد فلورسنت آپ کانورژن خاک‌های نادر استفاده شده در روش پودر افشانی

نانومواد فلورسنت آپ کانورژن مورد استفاده در روش پودر افشانی، به پسماند اثر انگشت پنهان می‌چسبند تا نمایان‌سازی انجام شود. در این مورد، طریقه عمل کاملاً شبیه روش پودر‌افشانی است. در سال ۲۰۱۱، ما[3] و همکاران برای اولین بار استفاده از میکروذرات NaYF4: Yb,Er آپ کانورژن تجاری را برای نمایان‌سازی اثر انگشت پنهان بر روی انواع مختلفی از سطوح غیر متخلخل و نیمه متخلخل گزارش کردند. فرآیند فقط شامل استفاده از پودر NaYF4: Yb,Erتوسط برس جهت نمایان‌سازی اثر انگشت بود.

در این تحقیق، تلاش برای نمایان‌سازی اثر انگشت پنهان موجود بر روی انواع زیرلایه‌های معمولی مانند کاغذ گلاسه مجله، ظرف آبمیوه، برچسب‌های پلاستیک با موفقیت مورد آزمون قرار گرفت. بعلاوه نتایج خوبی بر روی برخی از زیرلایه‌های خاص، نظیر اسکناس پلیمری ۵ دلاری استرالیایی که می‌تواند تحت تحریک نور فرابنفش فلورسانس قوی پس زمینه داشته باشد، حاصل شد (شکل a۱۳). در سال ۲۰۱۲، ما و همکاران گزارش مشابهی از استفاده ذرات آپ کانورژن YVO4: Yb,Er برای نمایان‌سازی اثر انگشت پنهان موجود بر روی انواع زیرلایه‌های غیرمتخلخل و نیمه متخلخل ارائه کردند. فرآیند نمایان‌سازی کاملاً مشابه روش‌های گزارش شده پیشین بود. علاوه بر این، نتایج مشابهی هنگام نمایان‌سازی اثر انگشت پنهان حاصل شده بود (شکل b۱۳). پودرهای آپ کانوژن NaYF4: Yb,Er (شکل a۱۳) و YVO4: Yb,Er (شکلb۱۳) استفاده شده برای نمایان‌سازی اثر انگشت پنهان موجود بر روی اسکناس پلیمری ۵ دلاری استرالیایی، پس از تحریک توسط نور فروسرخ نزدیک ۹۸۰ نانومتر، دارای فلورسانس شدیدی بودند و جزئیات قابل ملاحظه‌ای از لبه‌ها بدون تداخل‌های پس زمینه مشاهده گردید. با اینکه ذرات NaYF4: Yb,Er و YVO4: Yb,Er استفاده شده در دو پژوهش بالا بجای اندازه نانو دارای اندازه میکرون بودند، مسیر جدیدی را برای استفاده از ذرات آپ کانورژن در اندازه نانو برای نمایان‌سازی اثر انگشت پنهان گشودند.

در سال ۲۰۱۵، وانگ و همکارانش از نانوذرات NaYF4: Yb,Er برای نمایان‌سازی اثر انگشت پنهان موجود بر روی انواع مختلفی از سطوح بهره بردند. در حین عملیات سنتز، نانومواد آپ کانورژن NaYF4: Yb,Er اصلاح شده با اولئیک اسید به روش سولوترمال تهیه شدند. سپس پودرهای خشک نانومواد آپ کانورژن NaYF4: Yb,Er، برای نمایان‌سازی اثر انگشت پنهان توسط یک برس ظریف به کار برده شدند و اثر انگشت پنهان تحت تحریک نور فروسرخ نزدیک ۹۸۰ نانومتر نمایان شد. در اثر انگشت پنهان نمایان‌سازی شده موجود بر روی شیشه توسط نانومواد آپ کانورژن NaYF4: Yb,Er (شکل a۱۴) حتی جزئیات منافذ عرق نیز قابل مشاهده بود. چنین حساسیت نمایان‌سازی توسط پودرهای سنتی حتی آنهایی که فلورسنت بودند نیز غیر ممکن بود. علاوه بر این، فقط لبه برآمدگی‌ها دارای فلورسانس سبز بودند بدون آنکه شیارها و پس زمینه دارای فلورسانس باشند (شکل a۱۴) و نتیجه آن گزینش پذیری بالا بود. در شکل ۱۴ i-b مشخص است که نتایج خوبی در دیگر زیرلایه‌ها نیز فراهم شده است و جزئیات لبه‌ برآمدگی‌ها بطور مطلوب و واضح و بدون تداخل‌های پس زمینه با تمایز نمایان‌سازی بالا دیده می‌شود. می‌توان نتیجه گرفت که نانومواد آپ کانورژن NaYF4: Yb,Er تقریباً بر روی هر سطح غیر قابل نفوذ، برچسب‌های فلورسنت چند منظوره برای نمایان‌سازی اثر انگشت پنهان موجود با تمایز، حساسیت و گزینش‌پذیری بالا هستند.

 

۶. ۲. نانومواد فلورسنت آپ کانورژن استفاده شده به روش مایع

سوسپانسیون‌ نانومواد فلورسنت آپ کانورژن از طریق گزینش برخی از ترکیبات موجود در پسماند اثر انگشت در محیطی مایع به اثر انگشت پنهان متصل می‌شوند. در سال ۲۰۱۴، وانگ و همکارانش اولین کاربرد نانومواد فلورسنت آپ کانورژن NaYF4: Yb,Er اصلاح شده با آپتامر پیوند لیزوزیم[4] (NaYF4: Yb,Er/LBA) را برای نمایان‌سازی اثر انگشت پنهان بر اساس تکنیک تشخیص مولکولی گزارش کردند. لیزوزیم یکی از پلی‌پپتیدهایی است که در عرق انسان یافت می‌شود و می‌تواند به عنوان هدفی چند منظوره در پسماند اثر انگشت به کار گرفته ‌شود. LBA به ویژه لیزوزیم را گزینش می‌کند. در طی فرآیند نمایان‌سازی، سوسپانسیونی از‌ نانومواد فلورسنت آپ کانورژن NaYF4: Yb,Er/LBA بر روی اثر انگشت استفاده شد و نمونه‌ها به مدت ۳۰ دقیقه انکوباتور شدند. در طی انکوباسیون، مولکول‌های LBA موجود در سطح نانومواد فلورسنت آپ کانورژن به صورت گزینشی به مولکول‌های لیزوزیم موجود در پسماند عرق متصل شده و موجب اتصال بین NaYF4: Yb,Er و اثر انگشت پنهان می شوند. تصویر فلورسنت واضح بدون هیچ تداخل پس زمینه بدست آمد بطوریکه تمایز و گزینش پذیری بالایی را نشان می داد.

در سال ۲۰۱۶، وانگ و همکارانش به منظور استفاده بیشتر از سوسپانسیون نانوماده آپ کانورژن NaYF4: Yb,Er در نمایان‌سازی اثر انگشت پنهان، آن را بر روی انواع مختلفی از زیرلایه‌ها آزمودند. در سوسپانسیون، نانو مواد NaYF4: Yb,Er و سورفکتانت سدیم دودسیل سولفانات با یکدیگر مخلوط شده و با آب پراکنده شدند. تمام فرآیند نمایان‌سازی نسبتاً ساده بود. ابتدا اثر انگشت، برای چند دقیقه درون سوسپانسیون غوطه‌ور شد. پس از آن به آرامی با آب شسته شد. زنجیره آبگریز سدیم دودسیل سولفانات موجود بر روی نانومواد آپ کانورژن به آنها اجازه می‌دهد تا به چربی موجود در پسماند اثر انگشت بچسبند. برهم‌کنش‌های آبگریز میان زنجیره‌های آلکیل باعث جذب می‌شود. بنابراین رنگ‌آمیزی اثر انگشت‌ها با گزینش‌پذیری بالا انجام می‌شود. سپس تحت تحریک نور فروسرخ نزدیک ۹۸۰ نانومتر آثار انگشت نمایان شدند.

 

۷. نتایج و پیشنهادات

در این مقاله مروری، توجه ویژه‌ای به کاربرد و به کارگیری نانومواد فلورسنت نظیر نقاط کوانتومی، نانو مواد آپ کانورژن برای نمایان سازی اثر انگشت پنهان شده است. سپس معایب روش‌های سنتی مانند تمایز نمایان‌سازی پایین، حساسیت نمایان‌سازی پایین، گزینش پذیری نمایان‌سازی پایین و سمیت بالا را ارائه شد. برای غلبه بر این مشکلات، نانومواد فلورسنت، به ویژه نقاط کوانتومی و نانومواد آپ کانورژن که دارای خواص نوری عالی هستند، به عنوان کلاسی جدید از کاوشگرهای فلورسنت برای نمایان‌سازی اثر انگشت پنهان ارائه شدند. پس از آن مزایای نانومواد فلورسنت برای نمایان‌سازی اثر انگشت پنهان بحث شد. در نهایت، پیشرفت های نمایان‌سازی اثر انگشت پنهان با استفاده از نقاط کوانتومی و نانومواد آپ کانورژن به طور خلاصه مورد بررسی قرار گرفت.

با این حال، الزامات مهم‌ نانومواد فلورسنت از جمله نقاط کوانتومی و نانومواد آپ کانورژن در نمایان‌سازی اثر انگشت پنهان وجود دارد. اول، هنوز پژوهش‌های گزارش شده در حال توسعه بوده و به برنامه‌های کاربردی در دنیای واقعی انتقال نیافته‌اند و این به این معنی است که امکان تمایز نمایان‌سازی، حساسیت، گزینش‌پذیری و کاهش سمیت هنوز به عملی ساده و کارآمد تبدیل نشده است. دوم، اینکه بیشتر مطالعات گزارش شده تنها مربوط به نمایان‌سازی اثر انگشت‌های طبیعی نظیر اثر انگشت‌های ناشی از عرق و اثر انگشت‌های ناشی از روغن و چربی است، اما به ندرت در رابطه با آثار انگشت‌ خاص مانند اثر انگشت خونی و اثر انگشت کهنه گزارشی وجود دارد. سوم، اغلب مطالعات کنونی تنها متمرکز بر روی زیرلایه‌های معمولی مانند سطوح صاف، بی رنگ و غیر فلورسنت است در حالی که مطالعات کمی برای نمایان‌سازی اثر انگشت بر روی سطوح خاص مانند سطوح متخلخل، مرطوب و فلورسنت که به سختی قابل دستیابی هستند صورت گرفته است. چهارم، لازم است روش‌های گزینش هدفمند اثر انگشت توسعه یابند و قابلیت تشخیص همزمان پسماندهای اثر انگشت با استفاده از روش های ایمنوژنیک فراهم شود. در نهایت، برای پیشرفت بیشتر استخراج DNA پس از نمایان سازی اثر پنهان ، ضروری است تا تحقیقات از طریق آزمایش میدانی به حرکت روبه جلو خود ادامه دهند. ما اعتقاد راسخ داریم که فناوری نانو مفهوم سنتی ردیابی را تغییر می دهد و عرصه جدیدی در علوم پزشکی قانونی ایجاد خواهد کرد.

 

 منبع

M. Wang, M. Li, A. Yu, Y. Zhu, M. Yang and C. Mao. (2017) , Fluorescent Nanomaterials for the Development of Latent Fingerprints in Forensic Sciences, Adv. Funct. Mater., 1606243.